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磁控濺射(shè)鍍膜(mó)機
中頻磁控鍍膜機
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中頻濺射鍍膜機
磁控(kòng)真空鍍(dù)膜機(jī)
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磁控濺射電鍍設備
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磁控蒸發雙用鍍膜機
PVD磁控濺射鍍膜機
直流(liú)磁控濺(jiàn)射(shè)鍍膜設備



直流磁控濺射(shè)鍍(dù)膜機-真(zhēn)空鍍膜設備
磁控濺射鍍膜設備
用高能粒子轟擊固體表麵,固體表麵的原(yuán)子、分子與入射的(de)高能(néng)粒子交換動能後(hòu)從固體表麵飛濺出來的(de)現象稱為濺(jiàn)射。濺射出來的原子具有一定的能量,它們可以重新沉積凝(níng)聚在固體基(jī)片表麵上形成薄膜,稱為(wéi)濺射鍍膜。通常是利用氣體放電產(chǎn)生氣體電離其正離子(zǐ)在電場作用下高速轟擊陰極靶(bǎ)材擊(jī)出(chū)陰極靶(bǎ)材的(de)原子或分子,飛向被(bèi)鍍基片表麵沉積成薄膜。
羞羞视频网站真空(kōng)科技:磁控濺射鍍膜機
| 設備型號:磁控濺射(shè)真空鍍膜設備 | |
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磁控濺射鍍膜機應用於塑料製品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃製品等(děng)、工藝品、塑料手機殼(ké)、電子產品、建材等行業 |
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| 該係列設備主要是使用直流(或中頻)磁控濺射,可(kě)適(shì)應廣泛鍍膜靶材,如:銅、鈦、鉻、不(bú)繡鋼、鎳等金屬材料 | |
| 可以利用濺射工藝進行鍍膜,可提高膜層(céng)的附著力、重複性、致密度、均勻度(dù)等特點 | |
| 設備(bèi)主要參數 | |
| 真空室尺寸: | Φ1000mm 、Φ1200mm 、Φ1400mm 、Φ1600mm 、Φ1800mm 、 Φ2000mm |
| 真(zhēn)空係統: | 旋片泵+羅茨(cí)泵+擴散泵+維持泵(或選分子泵、深冷泵、深冷係統(tǒng)) |
| 極限真空: | 6x10-4Pa |
| 工作轉動方式 | 多軸行星式公自轉、變頻(pín)調速(可控可調) |
| 冷(lěng)卻方式 | 水冷卻循環方式,另配工業(yè)冷卻水塔或工業冷水機(製冷機)或深冷係統。(客戶提(tí)供(gòng)) |
| 控製方式 | PLC+觸摸屏操作或計算機控製,手動、半自動、自動方式 |
| 供給指標 | 氣壓0.5-0.8MPa、水(shuǐ)溫≤25℃、水壓≥0.2MPa |
| 報警及(jí)保護 | 對泵和靶等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警、並執行相應保護措施及電氣聯鎖功能 |
| 抽氣(qì)時間: | 空載大氣抽至5x10-3Pa,>13min |
| 備注: | 以上設備參數(shù)僅做參考,具體(tǐ)均按客(kè)戶(hù)實際工(gōng)藝(yì)要(yào)求設計定做 |
樣品展示:

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可根據用戶要求設(shè)計各種(zhǒng)規格型號的真(zhēn)空鍍膜機。
真空機組及電控(kòng)係統也可(kě)根據用戶(hù)要求進行設計配置。
羞羞视频网站科技國(guó)際領先水平的鍍膜應用解決方案:提供設備、材料、加工、技術(shù)、項目配套等(děng)係統服務
羞羞视频网站真空鍍膜設(shè)備有:蒸發鍍膜機、磁控(kòng)濺射鍍膜機 、磁(cí)控蒸發兩用鍍膜機 、多弧(hú)離子鍍(dù)膜(mó)機 中頻離子鍍膜機 、AF鍍膜機、超硬質塗層鍍膜機(jī)、卷繞式鍍膜機、PVD鍍膜(mó)線、鍍膜項目配套總成。
PVD工藝技術采(cǎi)用在真空條件下,通(tōng)過蒸餾或濺射等方式在工(gōng)件表麵沉積各種金屬和非金屬薄膜(mó)。
羞羞视频网站科(kē)技根據產品的特性(xìng)匹(pǐ)配最佳的鍍膜工藝方(fāng)案。
羞羞视频网站真空鍍膜機祖(zǔ)設備(bèi)在行業(yè)優勢特點所在:專業、誠信、可靠(kào)。