直流磁控濺射鍍膜設備
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直流磁控濺(jiàn)射鍍膜設備 詳情介紹(shào)"DINGYI" Details Of Product Introduction

 

直流磁(cí)控濺射(shè)鍍膜機(jī)-真空鍍膜設(shè)備


 

磁控濺射鍍膜設(shè)備

用高(gāo)能粒子轟擊固(gù)體表麵,固體表麵的原(yuán)子、分(fèn)子與入射的(de)高能粒子交換動能後從固體表麵飛濺出來的現象稱為濺射。濺射出來的原子具有一定的能量,它們可以(yǐ)重新沉積凝(níng)聚在固體基片表麵上形成薄膜,稱為濺射鍍膜。通常是(shì)利用(yòng)氣(qì)體(tǐ)放電產生氣體電離其(qí)正(zhèng)離子在電場作用下高速轟擊陰極靶材擊出陰極靶材的原子或分子,飛向被鍍基片表麵沉積成薄膜。


 

羞羞视频网站真空科技磁控濺射鍍膜機

設(shè)備型號:磁控濺(jiàn)射真空鍍膜設備

磁控濺射鍍膜機應用於塑料製品、陶瓷、樹脂、水(shuǐ)晶玻璃製(zhì)品等、工藝品、塑料手機殼、電子產品、建(jiàn)材等行業

該係列設備主要是使用(yòng)直(zhí)流(或中頻)磁控(kòng)濺射,可適應廣泛(fàn)鍍膜靶材,如:銅、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金(jīn)屬材料
可以(yǐ)利用濺射工藝(yì)進行鍍膜,可提高膜層的附著力、重複性、致密度、均勻度等(děng)特點
設備主(zhǔ)要參數
真空室尺(chǐ)寸: Φ1000mm 、Φ1200mm 、Φ1400mm 、Φ1600mm 、Φ1800mm  、 Φ2000mm
真空係統: 旋片泵+羅茨(cí)泵+擴散泵+維持泵(或選(xuǎn)分子(zǐ)泵、深冷泵、深冷(lěng)係統)
極限真空: 6x10-4Pa
工作轉動方式 多(duō)軸行星式公(gōng)自轉、變頻調速(可控可調)
冷卻(què)方式 水冷卻循環方式,另配工業冷卻水塔或工業冷(lěng)水機(製冷機(jī))或深冷係統。(客戶提供)
控製方(fāng)式 PLC+觸摸屏操作或計算機控製(zhì),手動、半自動(dòng)、自動方式
供給指(zhǐ)標 氣壓0.5-0.8MPa、水溫≤25℃、水(shuǐ)壓≥0.2MPa
報警及保護 對泵和靶等(děng)缺水、過流過壓、斷(duàn)路(lù)等異常情況進(jìn)行報警、並(bìng)執行相應保護措施及電氣聯鎖功能
抽氣時間: 空(kōng)載大氣抽至5x10-3Pa,>13min
備注: 以上設備(bèi)參數僅做參考,具體均按客戶實際工藝要求設計定做

 


 

樣品展示(shì):


 

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可根據用戶要求設計各種規格型號的真空鍍膜機。


真空機組(zǔ)及電控係統也可根據用戶(hù)要求進行設計配置。



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羞羞视频网站真(zhēn)空鍍膜設備有:蒸發鍍膜機、磁控濺射(shè)鍍膜(mó)機 、磁(cí)控蒸發兩(liǎng)用鍍膜機 、多弧離子鍍膜機 中頻離子鍍(dù)膜機 、AF鍍膜機、超硬質塗層鍍膜機、卷繞式鍍膜機、PVD鍍膜線、鍍膜項目(mù)配套總成。



PVD工藝技術(shù)采用在(zài)真空條件(jiàn)下,通過蒸餾(liú)或濺射等方式在工件表麵沉積(jī)各種金屬和非金屬薄(báo)膜。



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