中頻離子鍍膜機
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中頻離子鍍膜機-中頻濺射鍍膜設備


 

中頻濺射離子鍍膜機:
設備集直流磁控濺射,中頻濺射和電弧離子蒸發三種技(jì)術融合一體,根據不同產品需求,可選配加熱係統、偏(piān)壓係統、離化係(xì)統等裝置。設備配置了多對中頻靶位,能(néng)在金屬(shǔ)製品及非金屬表麵鍍製合金(jīn)膜、化合物膜、多層複合膜等,且利於快速沉積更厚更純淨的膜層。

 

設備規格:

型號 內腔尺寸 備注

TYL0608

Φ600*H800(mm)

設備可根據客戶要求定製

TYL1009

φ1000*H900(mm)

TYL1112

φ1100*H1250(mm)

TYL1312

φ1300*H1250(mm)

TYL1612

φ1600*H1250(mm)

TYL1912

φ1900*H1250(mm)

TYL1914

φ1900*H1400(mm)

TYL1422

φ1400*H2200(mm)

 

設備優勢:
設備所(suǒ)鍍製的(de)膜層具有(yǒu)附著力強、致密性高的優點,對提高顏色一致性及化合物成份的穩定性提供(gòng)了解決方案,可有效提高(gāo)產品的耐鹽霧性(xìng)、耐磨能力(lì)及產品表麵(miàn)硬度,滿(mǎn)足了高性能(néng)膜(mó)層製備的需求。在產品上表現為耐腐蝕性增強、膜層硬度增(zēng)大彈性模量降(jiàng)低、塗層表麵摩擦係數(shù)更(gèng)低、塗層顏色光亮度提高。


 

製備塗層:
離子金、離子銀、氮化鈦膜、碳(tàn)化鈦膜、氮化鋯膜、鈦(tài)鋁合金膜、氮化鉻(TiN) 、(TiCN) 、(TiC)、(TiO2) 、(TiAlN)、(CrN)、 (ZrN)、 (CrC)等金屬化合物膜層(céng)。


 

設備功(gōng)能:
效果:複合膜(功能膜)牢(láo)固度高,硬度高(gāo)。離化(huà)率(lǜ)高、沉積速率(lǜ)高(gāo)、磁控濺射低溫(wēn)穩(wěn)定、顆粒細膩、操作簡單、產量高等。


 

設備應用:
表帶、高爾夫球具、五金、餐具、手(shǒu)表配件、手機配件、眼(yǎn)鏡架、燈飾、衛浴潔具等高端製品。


 

鍍製顏色:
鈦金係列、鋯金係列、拉絲係列、黑色係列、彩色膜層係列,可實現深黑色(sè)、爐內金、玫瑰金、仿金、鋯金、寶石藍、亮銀(yín)色等共十多種顏色。


 

塗層示例:


 

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可根據用戶要求設(shè)計各(gè)種規格型號的真空鍍膜(mó)機。


真空機組及電控係統也可根(gēn)據用戶要求進行設計配置。



羞羞视频网站科技國際領先水平的鍍膜應用解決(jué)方案:提供設備、材料、加工、技術、項目配套等係統服務


 

羞羞视频网站真空鍍膜(mó)設備有:蒸發鍍膜機、磁控濺射鍍膜機 、磁控蒸發兩用鍍膜機 、多弧(hú)離子鍍膜機 中頻離子鍍膜機(jī) 、AF鍍膜機、超硬質塗(tú)層鍍膜機、卷繞式鍍膜機、PVD鍍膜線、鍍膜項目配套總成。



PVD工藝技術采用在真空(kōng)條件下,通過(guò)蒸餾(liú)或濺射等方式在工件表麵沉積各種金屬和非金屬薄膜。



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