多弧離子鍍膜機-陰（yīn）極電弧離子鍍膜設備（bèi）

（陰極電弧（hú））多弧離（lí）子（zǐ）鍍膜的原理是（shì）基於冷陰極自（zì）持弧光放電等離子體蒸發、電離鍍料，結合脈衝偏（piān）壓技術，提高（gāo）沉積粒子能（néng）量和活性，增強膜層的各項性能。它不僅能（néng）在金屬製品表麵進行鍍膜而且能在非金屬製（zhì）品表麵上（shàng）進行鍍膜；可以鍍金屬膜，氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層超硬膜、多元化合物膜，還可以鍍氮化鈦摻金（jīn）膜（mó）等（děng）。

（陰極電弧）pvd離子（zǐ）鍍膜機是一種（zhǒng）高效、無汙染（rǎn）的真空（kōng）鍍膜設備，具有沉積（jī）速度快、離化率高、離（lí）子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優點。