多弧離子（zǐ）鍍（dù）膜機-陰極電弧離子鍍膜設（shè）備

（陰極電弧）多弧離子鍍膜（mó）的原理是基於冷陰極自持弧光放電等離子體蒸發、電離鍍料，結合脈衝偏壓技術，提（tí）高沉積粒子能（néng）量和（hé）活性，增強膜（mó）層的各項（xiàng）性能。它不僅能在（zài）金屬製品表（biǎo）麵進行鍍膜而（ér）且能在非金（jīn）屬製品表麵上進（jìn）行鍍膜；可以鍍金屬膜，氮（dàn）化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮（dàn）化鉻（gè）及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層超硬膜、多元化合物膜，還可以鍍（dù）氮化鈦摻金膜等。

（陰極電弧）pvd離子鍍膜機是一種（zhǒng）高效、無汙（wū）染的真空鍍膜設備（bèi），具有沉積速度快、離化率高（gāo）、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優點。