真空鍍膜設備廠家

PACVD 又叫 PECVD （離子強化氣相沉積（jī））

PACVD 離子加強化學氣相沉積是在高度真空環境，溫度低於 200 ℃的情況下，沉（chén）積極度光滑，粘著性能（néng）好的無定形金剛石硬質合金塗層。相對 PVD 工藝， PaCVD 工藝應用深鍍電源，無需陰（yīn）極靶材，同時工件在爐膛中無需旋轉，該工（gōng）藝為幹淨無汙染，可靠，和多性（xìng）能的塗層工藝。

PACVD 離子加強化（huà）學氣相沉積是在高度真空環境，溫度低（dī）於 200 ℃的情況下，沉積極度光（guāng）滑，粘著（zhe）性能好的無定形金（jīn）剛石硬質合金塗層。