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物理氣相沉積 (PVD)

PVD 是物理氣相沉積的縮寫，PVD是在真空狀態下材料（liào）蒸發沉積的技術，真空腔室是必備的條件，以避免蒸發出的（de）材料和（hé）空氣反應，PVD塗層用來製備新的、具有額外價值和特點的產品，如絢麗的色彩、耐磨損能力和降低摩擦。利（lì）用物理氣相沉積 (PVD) 工藝，通過冷凝大部分金屬材料（liào）並與氣（qì）體結合，如氮，形成塗層。 基體材料是從固態轉化為氣態，並如在電弧工藝中一樣被接受到的熱能電（diàn）離，或者如在濺射工藝中一樣由動能電離。PVD技術（shù）是環（huán）保（bǎo）無（wú）汙染的，羞羞视频网站（chéng）真空科技專注開發於PVD鍍膜。

“物理氣相沉積（jī）”(PVD)涵蓋了薄膜技術領域的特殊（shū）工（gōng）藝。它指代一切在真空基礎下運用物理方式在基片表麵沉積薄膜的鍍膜工藝。

濺射工藝作為最為經濟的沉積方（fāng）法，在眾多（duō）工藝中被視作標準鍍膜技術，廣泛應用於多種工（gōng）業領域。濺射工藝如此流行的主要原因之一，是可以在種類繁多的（de）基材上沉積多種材（cái）料。

濺射工藝（yì）廣泛應用於多種領域，例如，半導體工業（yè）表麵（miàn）處理、光學工業偏振濾鏡（jìng）的生（shēng）產或建築玻（bō）璃工業大麵積表麵鍍膜（mó）等。

我（wǒ）們不僅向（xiàng）客戶（hù）提供鍍膜設備，而且自行（háng）研（yán）發（fā）生（shēng）產濺（jiàn）射靶材。我們的專業經驗在超過15年的實（shí）踐經驗中不（bú）斷得以完善。

所有PVD工藝中，用（yòng）於生（shēng）長薄膜的材料最初均（jun1）為固體（tǐ）形式，且常被置於工藝腔室內的某處，比如，濺射靶材中。為使材料氣（qì）化（huà）且隨後能以薄膜的形式聚合（hé）沉積到基材表麵（miàn），工藝（yì）過程中將應用到多種方式 (例如，使用短時、高能量的射頻脈衝、加電弧（hú）、通過（guò）離子或電子（zǐ）轟擊（jī）等)。

在熱蒸發沉積工藝中，用於生長（zhǎng）薄膜的材料將被電加熱器（qì）加熱，直至其轉化為氣態。PVD方法譜係也包括（kuò）分子束外延和離子束濺射鍍（dù）膜。上（shàng）述方法產出（chū）的（de）薄膜純度超高、均勻性極好，而且對基材的附著力極（jí）強。PVD鍍膜比傳統電化學工藝更為環保，可利用其作為替代傳統電化（huà）學（xué）工藝廣泛應用於多種領域。